|
|
Characterization of VTR-7000 deposition furnace
Petrová, Lenka ; Ulrych, Jan (oponent) ; Semiconductor, Vlastimil Hanáček, ON (vedoucí práce)
This bachelor’s thesis deals with the problem of adjusting of a CVD (chemical vapor deposition) reactor for operations in a given plant. The problem is that precise machines such as a CVD reactor have to be adjusted for function in the place, where they will be operated. This can be done by using statistical tools such as the DOE (design of experiment). There is a range of inputs that can affect the results of the deposition process. From these some will have to be selected as constants and some will become variables in the DOE. The target of this project is to introduce the reader to the topic of CVD, then, from previous DOE done on such machine in the COM1, design an experiment to adjust the machine in CZ4 WFAB for production, evaluate the acquired data and obtain the ideal setting for the reactor. The reader will be indirectly introduced also to DMAIC process since the DMAIC was used to evaluate the actual experiment in ON Semiconductor, Rožnov pod Radhoštěm, CZ4 WFAB.
|
|
|
Tenké vrstvy polykrystalického křemíku
Lysáček, David ; Schmidt, Eduard (oponent) ; Fejfar, Antonín (oponent) ; Spousta, Jiří (vedoucí práce)
Disertační práce se zabývá strukturou a vlastnostmi tenkých vrstev polykrystalického křemíku deponovaného metodou LPCVD na zadní stranu křemíkových desek, které jsou dále využívány pro výrobu polovodičových součástek. Práce se zaměřuje na detailní popis struktury vrstev, studium getračních vlastností vrstev a residuálního pnutí ve vrstvách. Hlavním cílem práce je vývoj dvou nových technologií. První vede ke zvýšení teplotní stability getrační schopnosti vrstev. Druhá řeší depozici vrstev s řízeným residuálním pnutím. Disertační práce byla připravována za podpory společnosti ON Semiconductor Czech Republic, Rožnov pod Radhoštěm.
|
|
|
Characterization of VTR-7000 deposition furnace
Petrová, Lenka ; Ulrych, Jan (oponent) ; Semiconductor, Vlastimil Hanáček, ON (vedoucí práce)
This bachelor’s thesis deals with the problem of adjusting of a CVD (chemical vapor deposition) reactor for operations in a given plant. The problem is that precise machines such as a CVD reactor have to be adjusted for function in the place, where they will be operated. This can be done by using statistical tools such as the DOE (design of experiment). There is a range of inputs that can affect the results of the deposition process. From these some will have to be selected as constants and some will become variables in the DOE. The target of this project is to introduce the reader to the topic of CVD, then, from previous DOE done on such machine in the COM1, design an experiment to adjust the machine in CZ4 WFAB for production, evaluate the acquired data and obtain the ideal setting for the reactor. The reader will be indirectly introduced also to DMAIC process since the DMAIC was used to evaluate the actual experiment in ON Semiconductor, Rožnov pod Radhoštěm, CZ4 WFAB.
|
|
| |
|
|
Pasivace poly-Si tenkovrstvých solárních článků ve vodní páře
Pikna, Peter ; Fejfar, Antonín
Vzorky polykrystalických křemíkových (poly-Si) solárních článků vyrobené firmou CSG Solar byly pasivovány ve vodní páře. Solární články po pasivaci připomínaly svým vzhledem články leptané ve směsi kyselin běžně používané na odstranění vrchní p+ vrstvy pro kontaktování spodní n+ vrstvy. Ačkoliv nebylo pozorováno výraznější zlepšení napětí naprázdno Voc, leptací efekt poly-Si ve vodě může stanovit horní hranice teploty, tlaku a doby vhodné pro pasivaci s minimálním negativním dopadem na článek. V neposlední řadě je prezentován také inovativní způsob kontaktování spodní n+ vrstvy na skle pro měření volt-ampérových charakteristik Suns-Voc metodou.
|
host ::
RSS.